ホームページ
CORALについて
ニュース
過去のニュース
講義・実習
国際活動
リンク

先端レーザー科学教育研究コンソーシアムCORAL開講科目

2025 Autumn semester, Lecture for Advanced Photon Science II
2025年度冬学期(後期・Aセメスター)先端光科学講義II
Course period: Autumn semester (October-Janualy)
Monday 2nd period (10:25am~12:10am)
開講時期: 10〜1月 月曜日2限目(10:25 〜 12:10)
Lecture room: 1402 Lecture room (4th floor)
in Chemistry Main Building, School of Science
教室: 東京大学本郷キャンパス 理学部化学本館4階講義室

Please check the latest update here.
最新情報はこちらのサイトで確認ください。
Schedule /日程 Title / タイトル
Abstract / 内容
10/6(月)
Course guidance
11/17(Mon)
Fundamentals and Applications of Optical Microscopy
光学顕微鏡の基礎と応用
NIKON SOLUTIONS CO., LTD. Keisaku Hamada
株式会社ニコンソリューションズ 浜田 啓作

Lectures on optical microscopy will be conducted. In the lectures, we will explain the importance of objective lenses in microscopes. We will introduce the principles of various types of optical microscopes, as well as the latest super-resolution microscopes.
光学顕微鏡の講義、実習を行う。講義では、顕微鏡で重要な対物レンズについて説明する。各種光学顕微鏡の原理から、最先端の超解像顕微鏡を紹介する。

Keywords: optical microscope, objective lens, spherical aberration, inverted microscope, upright microscope, polarized light microscope, stereoscopic microscope, super-resolution microscope.
キーワード:光学顕微鏡、対物レンズ、球面収差、倒立顕微鏡、正立顕微鏡、偏光顕微鏡、実体顕微鏡、超解像顕微鏡
11/25(Tue)
※11/24が
祝日のため
火曜日に
開講
Application of optical MEMS devices and image processing
光MEMSデバイスと画像処理の応用について
Technology Co., Ltd. Michinobu Mizumura
株式会社ブイ・テクノロジー  水村通伸

Image processing has a wide variety of applications, including observation, recognition, measurement, and three-dimensional image generation. These processes start from the point at which an image of an object is converted into digital data and imported into a computer as digital data. Since digital images can be regarded as functions of a two-dimensional coordinate system, various mathematical operations can be defined. Operations can include four arithmetic operations, logical operations, and algebraic operations, and various operations are performed as image processing depending on the purpose. We introduce general digital image acquisition methods and the handling of video signals, and then discuss application examples of image processing using the latest optical MEMS devices, and then discuss the similarities between two images. We also introduce the correlation coefficient, which deeply relates to all image processing.
画像処理は,観測,認識,計測,3次元画像生成など多岐にわたり応用されている.これら画像処理と呼ばれるものは,ある物体像をデジタルデータ化し,コンピュータにデジタルデータとして取り込んだ時点以降からの処理になる.デジタル画像は2次元座標系の関数とみなせるため,さまざまな数学的な演算処理を定義することができる.演算としては四則演算,論理演算や代数演算といった演算を行うことができ,用途に応じてさまざまな演算処理が画像処理として行われている.本講義では画像処理の一連の流れを理解できるよう,一般的なデジタル画像取得方法から映像信号の取り扱いなどについても簡単にふれ,さらに最新の光MEMSデバイスを適用した画像処理の応用例をいくつか取り上げ,さらに2つの画像の相似性の議論から導き出される相関係数がすべての画像処理と深く関係していることを紹介する.

キーワード: 画像処理,デジタル画像,相関,MEMS
  12/1(Mon)
Optical fiber and its application
光ファイバとその応用技術
Furukawa electric Co. Ltd. Takefumi Ohta
古河電気工業株式会社 太田健史

Extremely low transmission loss of optical fibers has made optical communications across oceans possible. We introduce the manufacturing method of optical fibers, their basic characteristics, and their applied technologies, and we introduce the characteristics and handling of optical fibers, such as single mode/multimode, chromatic dispersion, bending loss, and splicing. Next, we will discuss EDFA (Erbium Doped Fiber Amplifier) and Raman amplification, which support long-distance optical communications. We will also touch on fiber lasers developed based on EDFA. Finally, in optical communications, we use a highly nonlinear fiber that actively utilizes the nonlinear optical effect in optical fibers, which is a factor that degrades signals, to generate femtosecond pulses using optical pulse compression technology and amplify them using parametric effects.
光ファイバの製造方法から基本的な特性とその応用技術までを紹介する.光ファイバの伝送損失が著しく小さいことが太平洋横断の光通信を可能にした.低損失な光ファイバの製法紹介から講義を始め,シングルモード・マルチモード,波長分散,曲げ損失,接続などといった光ファイバの特性や取り扱いを紹介する.次に長距離光通信を支えるEDFA(Erbium Doped Fiber Amplifier) とラマン増幅を議論する.EDFAを基礎として発展したファイバレーザーにも触れる.最後に光通信では信号を劣化させる要因である光ファイバ中の非線形光学効果をむしろ積極的に利用する高非線形ファイバを用いた,光パルス圧縮技術によるフェムト秒パルスの発生とパラメトリック効果を利用した増幅技術を紹介する.

キーワード: Optical fiber 光ファイバ,VAD(Vapor phase axial deposition method,気相軸付け法), MCVD(Modified chemical vapor deposition method,化学気相成長),Single mode シングルモード,Multi--mode マルチモード,Splice 融着,MFD (mode field diameter),Dispersion 分散,Beding loss 曲げ損失,Cut-off wavelength カットオフ波長,EDFA (erbium doped fiber amplifier),Raman amplification ラマン増幅,Highly non-linear fiber 高非線形ファイバ,Optical pulse compression 光パルス圧縮ファイバ,Optical parametric ampliication 光パラメトリック増幅
12/8(Mon)
Fourier optics and application in advanced optical science
先端光科学におけるフーリエ光学応用
School of Science, The University of Tokyo Professor Atsushi Iwasaki
東京大学理学系研究科 岩崎純史

Broadband optical pulses such as femtosecond laser pulsed are widely applied in advanced optical science, and Fourier transforms in the time and frequency domains are essential to understand he broadband optica pulses. In this lecture, characterization and Fourier relation of broadband optical pulse between temporal and frequency domain is introduced, and broadband optical pulses, and principles and applications of various measurements using Fourier optics, such as pulse waveform shaping, pulse waveform measurement, Fourier spectrometry, CARS, and optical coherence tomography are discussed.
フェムト秒レーザーのような広帯域光パルスの応用においては,時間域と周波数域のフーリエ変換が様々な用途に応用される.本講義では,フーリエ光学を用いた,パルス波形整形,パルス波形計測,2光子励起スペクトル計測,CARS,光コヒーレンストモグラフィなどの原理と応用を学ぶ.

キーワード: Femtosecond laser pulse フェムト秒レーザー,Spatial light modulator 空間光変調器,Fourier transformation フーリエ変換,Temporal pulse modulation 時間波形整形,Spectrum phase measurement スペクトル位相測定
1/5(Mon) Application of electron beam inspection and measurement equipment in the semiconductor device industry半導体デバイス産業における電子線検査・計測装置の適用
Hitachi High-Tech Corporation Takumichi Sutani
株式会社日立ハイテク 酢谷拓路

In this lecture, principles of inspection and measurement equipment that uses electron beams in semiconductor device manufacturing is introduced. We also discuss applications using these devices based on actual results.
半導体デバイス製造において電子線を利用した検査・計測装置の原理を説明する.また,それらの装置を用いたアプリケーションについても実際の結果を元に紹介する.

キーワード : Electron microscope 電子顕微鏡、Surface electron microscope SEM、Secondary electron 二次電子、Back scattered electron 反射電子
1/19(Mon) Laser-applied maintenance and inspection technology for power infrastructure
電力プラントにおけるレーザ応用保全・検査技術
Toshiba Corporation, Toshiba Energy Systems & Solutions Corporation Katsunori Shiihara
株式会社東芝・東芝エネルギーシステムズ株式会社 椎原克典

Laser application technology used in industry, mainly power infrastructure such as ultrasonic flaw detection, laser welding, laser peening, and overview of optical applied measurement technology are introduced. We explain principles of each technology, practis and issues for practical application, and how to solve them.
産業界、主に電力プラントシステム等で活躍するレーザ応用技術(レーザー超音波探傷、レーザ溶接、レーザピーニング)や光応用計測技術の概要について学ぶ.個々の技術の原理,実用化のための課題とその解決方法などを中心に解説する.

キーワード: Laser ultrasonic flaw detection レーザ超音波法,Laser peeningレーザピーニング法,Non-destctive testing 非破壊検査,Stress improvement 応力改善



2025 Autumn semester,
Laboratory Course of Advanced Photon Science II
2025年度冬学期(後期・Aセメスター)先端光科学実験実習II
Course period: Autumn semester (October-Janualy) Tuesday~Thursday
3rd ~ 5Th period (13:00~18:35)
開講時期: 10〜1月 火,水,木曜日の各曜日
3〜5限目(13:00 〜 18:35)
Lecture room: 1003 Lecture room (B1 basement floor)
in Chemistry Main Building, School of Science
教室: 東京大学本郷キャンパス 理学部化学本館地階1003号室
Please check the latest update here.
最新情報はこちらのサイトで確認ください
Schedule /日程 Title / タイトル
担当
Abstract / 内容
 10/6(Mon)
Course guidance
  11/18(Tue),
     19(Wed),
     20(Thu) 
Fundamentals and Applications of Optical Microscopy
光学顕微鏡の基礎と応用
NIKON SOLUTIONS CO., LTD. Keisaku Hamada
株式会社ニコンソリューションズ 浜田 啓作

 Practical training on optical microscopy will be conducted. In the practical training, participants will learn about how to adjust and actually observe using polarized light microscopes, inverted microscopes, and stereoscopic microscopes.
実習では偏光顕微鏡、倒立顕微鏡、実体顕微鏡について、その調整方法から実際の観察までを行う。

Keywords: optical microscope, objective lens, spherical aberration, inverted microscope, upright microscope, polarized light microscope, stereoscopic microscope, super-resolution microscope.
キーワード:光学顕微鏡、対物レンズ、球面収差、倒立顕微鏡、正立顕微鏡、偏光顕微鏡、実体顕微鏡、超解像顕微鏡
  11/25(Tue),
     26(Wed),
     27(Thu) 
Image analysis using Digital mirror device(DMD)
DMDによる映像表示および画像解析に関する実習
V Technology Co., Ltd. Michinobu Mizumura, Yuta Uraike
株式会社ブイ・テクノロジー 水村通伸,浦池勇太

 MEMS devices include airbag systems using acceleration sensors and pressure sensors as drive control parts in the automobile industry, and blood pressure sensors in the pharmaceutical industry, but the most commercially successful device is the Digital micro-miirror device (DMD) chips are being adopted and mass-produced in vido projectors. The DMD has approximately 13 μm square micromirrors arranged in two dimensions, 1024 vertically and 768 horizontally, and each can be tilted from +12° to -12° at a speed of more than 9800 frames/sec using electrical control signals. In this training, we will use a simple projector experimental device using a DMD chip to convert digital video data, control the mirror drive timing, and project the video onto a screen as an application of image processing. In addition, images are acquired using a non-contact three-dimensional surface shape measurement microscope using a DMD chip, images with different focal points are acquired, and their correlation coefficients are derived to examine the accurate focal position and depth of focus.
MEMSデバイスとしては,自動車関連では加速度センサを使用したエアバッグシステムや駆動制御パーツとしての圧力センサ,医薬関連では血圧センサなどがあるが,もっとも商業的に成功したものとして米国TI社の開発したDigital Micro-mirror Device (DMD)チップがビデオプロジェクタに採用され量産されている.DMDは約13μm角のマイクロミラーが縦1024,横768の2次元で配置され,それぞれが電気制御信号により9800 frames/sec以上の速度で+12°から−12°に傾けることができる.本実習では,DMDチップを使用した簡易的な投影プロジェクタ実験装置により,デジタル映像データを変換,ミラー駆動タイミングを制御してスクリーンに映像として投影し,画像処理の応用として実習する.また, DMDチップを使用した非接触3次元表面形状測定顕微鏡により画像を取得し,焦点の異なる画像を取得し,それらの相関係数を導出して正確な焦点位置と焦点深度を検討する.(4名) 

キーワード : Image processing 画像処理,Digital images デジタル画像,Correlations 相関,MEMS
  12/2(Tue),
  3(Wed),
  4(Thu)
Measurement, handling and amplification/nonlinear applications of optical fibers
光ファイバの基本測定と増幅・非線形応用
Furukawa electric Co. Ltd. Takefumi Ohta, Shigehiro Takasaka
古河電気工業株式会社 太田健史,高坂繁弘

Three topics on optical fibers will be conducted. (1) Cutoff and bending loss measurement: Basic handling and fusion splicing of optical fibers, spectrum of bent single mode and multimode fibers are experienced, and the principle of waveguide is discussed. (2) Characteristics of an erbium-doped fiber amplifier: Through measuring the amplification characteristics, the principles of optical amplification and noise generation will be experienced. (3) Optical pulse compression experiment: Picosecond optical pulses are compressed into femtoseconds, optical pulse measurement methods, spectral expansion using self-phase modulation, and dispersion compensation using anomalous dispersion are experienced.
3種の光ファイバを用いる実験を行う. (1)カットオフ波長,曲げ損失測定:この測定を通じ,シングルモード・マルチモードの違い,導波の原理を理解し,光ファイバ素線の基本的な取り扱い方や融着接続方法を身に着ける.(2)エルビウム添加ファイバ増幅器の増幅特性測定: この増幅特性測定を通じ,光増幅原理と雑音発生原理を体験する.(3)光パルス圧縮実験: ピコ秒の光パルスをフェムト秒に圧縮する実験を通じ,光パルスの測定方法,自己位相変調によるスペクトル拡大と異常分散による分散補償を体験する.(6名)

キーワード: Cut-off wavelength カットオフ波長,Bent loss 曲げ損失,Fusion splicing 融着,EDFA,Gain 利得,Noise 雑音指数(NF: noise figure,),Optical pulse compression 光パルス圧縮,Highly nonlinear optaical fiber 高非線形ファイバ,Self-phase modulation 自己位相変調,Optical soliton 光ソリトン

12/9(Tue),
    10(Wed),
    11(Thu)
Waveform shaping of femtosecond laser pulses and frequency domain interference waveform measurement
フェムト秒レーザ波形整形と周波数域干渉波形計測
School of science, The University of Tokyo Professor Atsushi Iwasaki, Professor Toshiaki Ando
東京大学大学院理学系研究科 岩ア純史・安藤俊明

Using femtosecond laser pulses output from a titanium sapphire femtosecond laser oscillator, we assemble a 4f-type Fourier optical system for waveform shaping with a liquid crystal spatial light modulator. Spectral interferometry for characterizing the temporal waveform of the femtosecond laser pulses is discussed.
チタンサファイアフェムト秒レーザー発振器から出力されるフェムト秒レーザーパルスを用いて,液晶空間光変調器を用いた4fフーリエ波形整形器を実際に組立し,フェムト秒レーザーパルスの整形された波形を周波数干渉によって計測する実験を行う.(4名)

キーワード: Femtosecond laser pulse フェムト秒レーザー,Spatial light modulator 空間光変調器,Fourier transformation フーリエ変換,Temporal pulse modulation 時間波形整形,Spectrum phase measurement スペクトル位相測定

  1/6(Tue),
    7(Wed),
    8(Thu) 
Application of electron beam inspection and measurement equipment in the semiconductor device industry
半導体デバイス産業における電子線検査・計測装置の適用 
Hitachi High-Tech Corporation Takumichi Sutani
株式会社日立ハイテク 酢谷拓路

 You will operate a tabletop scanning electron microscope and practice the inspections using electron beams. The sample you bring will be observed using tabletop SEM.
実習では、卓上走査電子顕微鏡を実際に操作し、電子線を用いた検査を実践する. 

キーワード: Electron microscope 電子顕微鏡、Surface electron microscope SEM、Secondary electron 二次電子、Back scattered electron 反射電子 
  1/20(Tue),
     21(Wed),
     22(Thu) 
Inspection technology using light and laser for power infrastructure
光を用いた検査技術の実習 
Toshiba Corporation, Toshiba Energy Systems & Solutions Corporation Katsunori Shiihara, Takeshi Hoshi
株式会社東芝・東芝エネルギーシステムズ株式会社 椎原克典,星岳志

 The basics of preventive maintenance inspection technology using lasers and light (laser ultrasonic flaw detection, laser peening) and related measurement technology will be experienced. Handling and optimizing optical systems according to the characteristics of each light source and the interaction between lasers and materials are discussed.
レーザや光を使った予防保全検査技術(レーザ超音波探傷,レーザピーニング)とそれに関わる計測技術の基礎について実験を通じて学ぶ.それぞれの光源の特徴に応じた取扱や光学系の調整方法を習得すると共に,レーザと材質との相互作用に対する理解を深める.(6名) 

キーワード: Laser ultrasonic flaw detection レーザ超音波法,Laser peeningレーザピーニング法,Non-destctive testing 非破壊検査,Stress improvement