講義では、回折光学を使った色消し効果のカメラレンズへの応用、回折光の干渉によるナノメートルでの位置計測器（エンコーダー）、近接場を用いた微細加工技術と、それによって実現したナノ光学技術の新しい研究開発の成果について解説いただきました。
実験実習では講義と連携して、Ｈｅ−Ｎｅレーザーを透過型回折格子で回折させ、２つの一次回折光を同軸にして干渉信号を計測しました。２つのグループに分かれて、ＴＡの指導のもの、干渉計を作成し、得られたフリンジ干渉信号のビジビリティーを良くするように調整しました。フォトダイオードによって電気信号に変換した干渉信号の信号強度から、回折格子の位置計測精度を評価しました。次に、制御作動増幅器などを用いた電子回路を構成して、回折格子に取り付けたピエゾ素子へのフィードバック信号を作成して、回折格子の位置制御を行い、外乱や変調信号に対する制御性について実測して検討を行いました。

本実験実習では、「先端光量子アライアンス」ならびに「東京大学工学系研究科附属光量子科学研究センター」にご支援いただき、博士課程学生の山中 一宏 さん、渡部 恭平 さん（東京大学大学院工学系研究科）さん、安藤 俊明 さん、大和田 成起 さん、三浦 瞬さん（東京大学大学院理学系研究科）にティーチングアシスタントとしてお手伝いいただきました。

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